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科學(xué)家研制2D金屬芯片:讓儲存速度提高100倍

發(fā)布時間:2020-07-04 10:42:54來源:驅(qū)動之家

  科學(xué)家正在努力,希望開發(fā)出下一代數(shù)據(jù)存儲材料,以提高現(xiàn)有存儲速度。

  據(jù)英國《自然·物理學(xué)》雜志近日發(fā)表的一項研究,一個美國聯(lián)合研究團隊利用層狀二碲化鎢制成了二維(2D)金屬芯片,其厚度僅三個原子,其可代替硅芯片存儲數(shù)據(jù),且比硅芯片更密集、更小、更快,也更節(jié)能,同時儲存速度提高了 100 倍之多。

  研究人員對二碲化鎢薄層結(jié)構(gòu)施加微小電流,使其奇數(shù)層相對于偶數(shù)層發(fā)生穩(wěn)定的偏移,并利用奇偶層的排列來存儲二進制數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)寫入后,他們再通過一種稱為貝利曲率的量子特性,在不干擾排列的情況下讀取數(shù)據(jù)。

  與現(xiàn)有的基于硅的數(shù)據(jù)存儲系統(tǒng)相比,新系統(tǒng)具有巨大優(yōu)勢——它可以將更多的數(shù)據(jù)填充到極小的物理空間中,并且非常節(jié)能。此外,其偏移發(fā)生得如此之快,以至于數(shù)據(jù)寫入速度可以比現(xiàn)有技術(shù)快 100 倍。

  對超薄層進行非常小的調(diào)整,就會對它的功能特性產(chǎn)生很大的影響,而人們可以利用這一知識來設(shè)計新型節(jié)能設(shè)備,以實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展和更智慧的未來存儲方式。
  (邯鄲網(wǎng)站制作

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